Abstract: . . .  drogati ma di bassa qualità, ricoperti di silice SiO 2 . Poi vi deposita silicio con CVD e lo sottopone a ricristallizzazione su ampia area per aumentare le dimensioni del grano. Queste celle raggiungono il 9.3% di efficienza. 3. si usano materiali da substrato diversi dal silicio, come ceramiche e grafite, che vengono incapsulati in un involucro e poi vi si deposita sopra silicio che viene successivamente ancora ricristallizzato, le efficienze raggiunte sono del 11%. I contatti metallici, per le strutture tipo SOI (silicon on insulator), sono quelli interdigitati. pagina 83 Page 84 pagina 84 Page 85 MATERIALI SPECIFICI PER DISPOSITIVI FV A FILM SOTTILE . I materiali più adatti per la tecnologia a film sottile sono quelli dotati di bandgap diretto . . .
. . .  un nastro di silicio cristallino con spessori e bordi di forma e dimensioni controllate effettuando il passaggio attraverso uno stampo. Il nastro viene creato spingendo il silicio fuso contenuto in un crogiolo attraverso una matrice che ne determina la forma e lo spessore. Il nastro è molto sottile ed è in qualche modo paragonabile alla fetta cristallina classica solo che non è stata ricavata per taglio di un lingotto, ma è stata direttamente formata dal materiale fuso. La lastra di silicio viene spezzata alla lunghezza voluta attraverso il laser. Questo tipo di lavorazione fornisce un mercato che oggi si attesta su valori del 3, 4% ma in futuro si prospetta un suo più largo impiego anche in considerazione del fatto che si tratta di una tecnologia . . .
. . .  determinano comportamenti resistivi della corrente. La resistenza di shunt R SH schematizza le non idealità del diodo e può essere vista in parallelo ad esso. pagina 52 Page 53 STRUTTURA DI BASE DELLA CELLA SOLARE A GIUNZIONE PN. Le celle solari a singola giunzione non sono altro che diodi di superficie molto ampia e poco profondi. Il nucleo della cella (regione attiva) è rappresentato da un semiconduttore di tipo p su cui e stata effettuata una diffusione superficiale poco profonda di droganti donatori così da formare lo strato n che solitamente è quello esposto alla luce e che viene indicato come emettitore (emitter). pagina 53 Page 54 Su questa struttura di base si realizza la parte complementare della cella che è fatta di diverse parti: . . .
. . .  controllate effettuando il passaggio attraverso uno stampo. Il nastro viene creato spingendo il silicio fuso contenuto in un crogiolo attraverso una matrice che ne determina la forma e lo spessore. Il nastro è molto sottile ed è in qualche modo paragonabile alla fetta cristallina classica solo che non è stata ricavata per taglio di un lingotto, ma è stata direttamente formata dal materiale fuso. La lastra di silicio viene spezzata alla lunghezza voluta attraverso il laser. Questo tipo di lavorazione fornisce un mercato che oggi si attesta su valori del 3, 4% ma in futuro si prospetta un suo più largo impiego anche in considerazione del fatto che si tratta di una tecnologia ancora giovane. pagina 79 Page 80 pagina 80 Page 81 SILICIO CRISTALLINO IN FILM . . .
--3000,4,375,3312,74050